国产刻蚀机入选全球首条5纳米芯片产线

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最近，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米（0.1毫米的二万分之一），将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划明年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。刻蚀机是芯片制造的关键装备之一，中微突破了“卡脖子”技术，让“上海制造”跻身刻蚀机国际第一梯队。

刻蚀机对精度的控制要求很高，方寸间近乎极限的操作。刻蚀尺寸的大小与芯片温度有直接的关系，中微自主研发的部件使刻蚀过程的温控精度保持在0.75摄氏度内，达到国际领先水平。气体喷淋盘是刻蚀机的核心部件之一，与进口喷淋盘相比，其晶粒十分精细、致密，而且国产陶瓷镀膜的喷淋盘使用寿命延长一倍，造价却不到五分之一。

刻蚀机曾是一些发达国家的出口管制产品，但近年来，这种高端装备在出口管制名单上消失了。这说明如果我们突破了“卡脖子”技术。明年，台积电将率先进入5纳米制程，已通过验证的国产5纳米刻蚀机，预计会获得比7纳米生产线更大的市场份额。

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